JetFirst Four de Recuit Thermique Rapide

Le système JetFirst d’ECM Technologies est un four de traitement thermique compact et robuste pour les applications RTP/RTA.

 

Parfaitement adapté au recuit thermique rapide (RTA) pour un large panel de substrats et de composants (Silicium, Quartz, Saphir, Aciers, III-V, II-VI, Germanium, Ceramiques etc.) allant de 100mm jusqu’à 300mm de diamètre.

 

Ce four RTP est équipé d’une chambre de réaction métallique refroidie par eau, et a par conséquent, un effet mémoire ultra faible.

Le système JetFirst a été développé pour répondre aux besoins des universités et des laboratoires de recherche. Le système de contrôle de mesure de température permet d’obtenir une mesure précise ainsi qu’une répétabilité thermique accrue des procédés. Le système de chauffage par lampes, la bride supérieure et le hublot quartz sont montés sur un couvercle rotatif permettant un accès simple et rapide à la chambre pour faciliter le chargement et le déchargement du four.

 

Les suscepteurs graphite revêtus de carbure de silicium sont disponibles pour le traitement de divers échantillons et matériaux. Une chambre supplémentaire peut être fournie sur demande pour éviter la contamination de la chambre, si plusieurs procédés doivent être réalisés dans cette même chambre. La grande fiabilité et la haute performance sont des caractéristiques de la JetFirst, lui permettant d’envisager la production en petites séries.

 

Le procédé peut se dérouler sous vide ou sous atmosphère. Un système de régulation PID permet un contrôle thermique précis et répétable sur toute la plage de température. Le procédé est programmé par ordinateur, avec une supervision PIMS dédiée, permettant l’enregistrement de toutes les données du procédé et de la machine.

  • Recuit Thermique Rapide (RTA)
  • Traitement Thermique Rapide (RTP)
  • Oxydation Thermique Rapide (RTO)
  • Diffusion Thermique Rapide (RTD)
  • Cristallisation /Carbonisation
  • Recuit de Contact
  • Sélénisation (option)

Jetfirst

  • 100 mm
  • 200 mm
  • 300 mm
  • Pompe pour vide primaire
  • Pompe pour vide secondaire
  • Ligne de gaz process
  • Suscepteur
  • Options hautes températures
  • Chambre additionnelle
  • Configuration 100% hydrogène

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